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旋轉(zhuǎn)式等離子清洗機KT-G1DQX主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用“達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。

滾筒等離子清洗機KT-G1DQX主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。此款等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設(shè)備，通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達到360度清洗。

等離子清洗機刻蝕機KT-S2DQX利用等離子清洗機對包裝盒子或玻璃瓶體進行預處理，在包裝或瓶體貼標簽過程中，經(jīng)過預處理后，可采用價格低廉、無環(huán)境污染的水膠。 KT-S2DQX配備了觸摸屏，產(chǎn)品多功能，智能，簡單。

小型離子濺射儀鍍膜儀一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。

不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的Au薄膜,研究蒸發(fā)速率對薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結(jié)構(gòu)變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜，儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動控制，設(shè)計符合人體工程學。